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Patente de Apple revela la tecnología que busca eliminar el notch del iPhone

Se ha hablado anteriormente de las intenciones de Apple por eliminar de forma definitivamente el «notch» del iPhone. Una patente de la compañía reveló el cómo se plantea la empresa ponerle fin a esta área.

Apple ha estado investigando formas de eliminar el notch y al parecer integrar un sistema de desbloqueo facial directo, según Apple Insider, la empresa de los de Cupertino cuenta con una solicitud de patente que habla de integrar Face ID bajo la pantalla con ayuda de tecnología.

El documento de patente registrado en la Oficina de Marcas y Patentes de Estados Unidos, habla de emplear «fotodetectores integrados en placas posteriores de transistores de película delgada».  Siendo la idea el incrustarlos detrás de la pantalla o conectarlos a la misma, también se registró en la solicitud, las posibilidad de unir el fotodetector a la estructura multicapa e incluir un «material orgánico fotosensible».

Aún se está trabajando en desarrollar esta tecnología que Apple indica puede configurarse como «un sensor de autenticación biológico o un sensor de reconocimiento facial».

Esta idea de eliminar el notch del iPhone ha sido planteada hace ya algunos años y a pesar de existir una solicitud de patente, no hay forma de asegurar que será realizable próximamente. 

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